二手 SAMCO RIE-212iPC #293587431 待售
网址复制成功！
单击可缩放
SAMCO RIE-212iPC是一种先进的反应性离子蚀刻（RIE）设备,可为多种材料提供高精度蚀刻。它用于在微机电系统（MEMS）、半导体器件制造、显示器电池制造等广泛应用中放大微纳米结构。该系统是高分辨率蚀刻各种材料的高效、经济高效的工具，如硅、氙、砷、铝和具有出色蚀刻均匀性和精确度的聚合物。SAMCO RIE 212 IPC建有600毫米x 500毫米主室，用于大量蚀刻基材，200毫米x 150毫米侧室，用于较小的晶片和样品。其工作压力范围为50 mTorr至400 mTorr，包括一个内置的钛吸尘器真空泵，提供0.1 mTorr或更高的极端压力。蚀刻室采用不锈钢制成，具有140 W加热元件，温度范围为0-200 °C。该单元还采用数字车轮控制来设置蚀刻压力、流量和时间。RIE-212iPC为具有超高分辨率和可重复结果的蚀刻提供了精确的解决方桉。其特点是在基板的所有区域都具有精确的均匀性，残留量低，并且增强了介电蚀刻。它使用先进的计算机机器来控制其所有功能，例如可以编程的蚀刻配方，以获得准确和可重复的结果。它还包括一个带有安全传感器的气体输送工具和一个遥控垫。RIE 212 IPC非常适合那些寻求各种材料和应用的精确和可重复蚀刻的用户。它的精确度和低度残留物可以使抛光和整体光洁度更好。它也极易编程和操作，使其成为实验室、研究设施和其他需要精确蚀刻解决方桉的领域的绝佳选择。
还没有评论