二手 SAMCO RIE-212iPC #9036931 待售
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ID: 9036931
ICP etching system, 8"
System type: cassette-to-cassette production
Active wafer temperature control (Helium backside cooling)
Electrostatic chuck for wafer clamping
Processing of multiple wafers possible using the tray cassette
Fully automatic operation using graphical touch panel screen
Data management and recipe management
Data logging is possible with use of an optional P
Application:
Low-damage etching of GaN, GaAs, InP for production of electronic and light emitting devices
Etching of ferroelectric materials for memory devices
High-speed etching for micromachine production
Currently operational
2009 vintage.
SAMCO RIE-212iPC干蚀刻器是一种高性能工具，便于各种材料上广泛的蚀刻应用。其广泛的功能使其成为许多用途的绝佳工具,包括清洁、创建功能和蚀刻大面积区域。SAMCO RIE 212 IPC的腔室尺寸为6000厘米³能够达到500摄氏度的温度。它具有高精度的加热器和严密的闭环温度控制设备，允许用户精确控制等离子体源的温度。RIE-212iPC配备了一系列压力控制器和气体输送系统。它可以在广泛的压力范围内使用，允许你使用各种工艺气体。RIE 212 IPC具有高压、高流量的涡轮分子泵，确保了一致、可重复、可靠的蚀刻和高通量。SAMCO RIE-212iPC有三个双源等离子体源模块，允许您选择最适合您特定蚀刻应用的模块。它有一个防撞系统，防止损坏室壁、门封和室组件。SAMCO RIE 212 IPC具有一系列设计方便使用的功能，如直观的控制界面、自动等离子体反冲以及充裕的样品装卸空间。它连接到一个复杂的基于PC的控制单元,以便于操作和远程访问。RIE-212iPC有一个高效的射频动力机器，可以提供高达200W 13.56MHz的高质量蚀刻结果。它还具有高级自动调整工具,能够快速设置蚀刻过程参数。综上所述，RIE 212 IPC干蚀刻机是一种广泛材料蚀刻的理想机器。它具有高精度的温度控制资产,能够以最低的气体使用量实现精确的蚀刻结果,而其压力范围、工艺气体和源模块为任何应用程序找到最佳设置提供了灵活性。其直观的用户界面和高效的射频功率模型使其成为蚀刻应用的绝佳选择。
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