二手 SAMCO RIE-331iPC #9395956 待售

SAMCO RIE-331iPC是一种用于半导体器件制造中电介质蚀刻的高级异步无功离子蚀刻器（RIE）。该蚀刻设备结合了高均匀性、精密控制蚀刻参数、可重现蚀刻轮廓以及能够蚀刻多种介电材料等性能特点。可用于栅极氧化物的形成、接触蚀刻、高长宽比蚀刻等各种半导体工艺。RIE-331iPC由真空室、气体输送系统和高精度等离子体源组成。腔室是一个垂直的矩形结构，能够达到1 × 10-3 Pa的底压，它有一个四针静电卡盘，可以容纳直径达8英寸、厚度达20mm的基板。气体输送单元配有射频发电机和用于控制气体流动的气体质量流量控制器。SAMCO RIE-331iPC中的分批加热机旨在减少蚀刻周期中基板温度的变化。RIE-331iPC通用的等离子体源使其非常适合用于各种蚀刻工艺。它具有高达300 W的可调功率水平，具有可变频率、可变电极偏置和可调气体成分。这确保了特定应用程序的最佳蚀刻条件。SAMCO RIE-331iPC还配备了先进的诊断工具，可以测量等离子体的均匀性、压力稳定性和气体使用情况。RIE-331iPC是一种先进的蚀刻资产，设计用于可靠的晶圆生产。其先进的气体输送模型和可调等离子体源提供精确的蚀刻控制。此外,SAMCO RIE-331iPC的批量加热设备确保了均匀的蚀刻结果,诊断系统确保了精确的数据收集和控制。RIE-331iPC是一种用于介电蚀刻应用的强大而可靠的旋转蚀刻器。