二手 SAMCO UCP LFC 101 #293798827 待售

SAMCO UCP LFC 101
ID: 293798827
Plasma cleaner.
SAMCO UCP LFC 101是一种尖端等离子体蚀刻/灰化工具,设计用于半导体和微电子制造中的高性能蚀刻和清洁过程。这种多功能设备结合了先进技术,在材料去除和表面改造应用中提供了无与伦比的控制和精度。LFC 101提供了广泛的功能,使其成为研究和开发实验室、大学以及寻求在其过程中取得最佳结果的工业设施的重要解决方桉。SAMCO UCP LFC 101配备了高频等离子体源,产生适合各种蚀刻和灰化过程的低压、高密度等离子体环境。该工具的腔室被设计成保持均匀的等离子体分布和温度控制,确保在不同的基板上一致和可重现的结果。系统的自上而下的配置可以方便地加载和卸载样品,方便快速周转时间和高效操作。LFC 101的一个关键特点是其先进的工艺控制功能,使用户能够精确调整气流、压力、功率和温度等关键参数,以达到所需的蚀刻或清洁效果。该工具与广泛的气体兼容,包括氧气、氙气、CF4、SF6和CHF3,允许针对不同的材料类型和应用进行灵活的工艺优化。此外,系统的软件界面提供了对过程参数的直观控制和监控,简化了操作并提高了生产率。SAMCO UCP LFC 101能够进行多种蚀刻工艺,包括反应性离子蚀刻(RIE)、深反应性离子蚀刻(DRIE)和各向同性蚀刻等。这些工艺能够在硅、二氧化硅、氮化硅和金属等基板上实现精确的模式转移和材料去除。该工具具有很高的选择性和各向异性控制功能,非常适合创建复杂的图桉、沟槽、通风和具有高长宽比和亚微米尺寸的特征。除了蚀刻,LFC 101还可以用于等离子体灰化过程,这涉及去除基板表面的有机污染物和残留物。工具的灰化功能对于在后续处理步骤(如沉积、光刻和粘合)之前确保表面清洁和均匀至关重要。通过有效去除有机污染物,系统有助于提高设备制造工艺的质量和可靠性。总体而言,SAMCO UCP LFC 101是一款最先进的等离子体蚀刻/灰化工具,为各种半导体和微电子应用提供无与伦比的性能、精度和多功能性。该工具具有先进的工艺控制功能、与各种气体的兼容性以及执行多种蚀刻和灰化工艺的能力,是研究和制造设施在材料加工和设备制造方面取得卓越成果的不可或缺的资产。
还没有评论