二手 SEZ / LAM RESEARCH 203 #9246716 待售

SEZ / LAM RESEARCH 203
ID: 9246716
晶圆大小: 6"-8"
Spin etcher, 6"-8" With chamber.
SEZ/LAM RESEARCH 203是一种蚀刻器/asher,用于半导体制造和研发环境。这款精密设备采用线性电子束(LEB)源,其设计特点是具有一致的轮廓、纵横比和深度。此外,该系统可能用于产生半导体表面的高速、短脉冲清洗。具有开放式框架配置,SEZ 203配备了现场可更换组件,便于维护。这确保了最大的正常运行时间,并允许根据需要重新配置设备。LEB源包括三个主要组件-电子枪、束成形电极和磁场产生线圈。这种设计允许自动脉冲气体输送,允许精确的过程控制。可以在LEB源中加入两个气体喷射器,注入第二个等离子体气体,以增加蚀刻能力。此蚀刻器/asher通过简单易用的Process Create PC软件包进行编程。该软件允许用户开发和保存配方,同时提供实时流程监控。所有配方都可以存储在设备的内存中以备将来使用。此外,LAM RESEARCH 203还为用户提供了一个集成配方管理机器,以方便多个系统之间的配方交换。当用作蚀刻器时,203通过使用其精细控制的电子束产生亚微米分辨率特征。此外,该工具还配备了先进的基板车工,使其成为跨越大型排列基板的多层蚀刻的理想选择。此特纳还能够根据自定义参数和用户定义的公差执行自动配方。SEZ/LAM RESEARCH 203资产在用作粉碎机时,能够对先进的半导体表面进行短脉冲、高速清洁。这将清除设备表面的污染物,以帮助生产性能更高的设计。除了传统的ashing之外,该模型还能够利用变速电机控制器来减少循环时间和ashed表面的粗糙度。总之,SEZ 203是一个先进的蚀刻/asher能够满足各种需求。该系统具有精密的LEB源、自动气体输送、集成配方管理设备和基板车工等特点,非常适合处理具有挑战性的蚀刻和灰化过程。LAM RESEARCH 203设计简单易行,是具有复杂蚀刻和灰化需求的组织的绝佳选择。
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