二手 SEZ / LAM RESEARCH 223 #293748588 待售

SEZ/LAM RESEARCH 223是一款高端干蚀刻设备。它是一种生产级系统，设计用于蚀刻直径最大为8英寸（200毫米）的晶片。该装置旨在在包括硅、氮化硅、二氧化硅、碳化硅、氧化锡等工程材料的工艺材料中实现卓越的蚀刻性能和生产吞吐量。机器的蚀刻均匀性是蚀刻过程中达到的最高。该工具由一个主腔室和一个由两个载荷锁连接的传递腔室组成。主室配有两个独立的目标，用于干蚀刻和灰化应用。转运室设有两个负载锁，两个机器人臂和一个子室，用于原位主室清洗。SEZ 223具有强大的多源、多频、射频发生器,可提供共溅射和双处理功能。这些功能允许用户优化蚀刻轮廓,以实现蚀刻形状和控制的最高精度。多频发生器还允许可调的过程控制,允许用户拨入各种材料和蚀刻应用中的蚀刻速率和配置文件。此外，该资产设计为在非常低的压力下运作。除了蚀刻功能外,LAM RESEARCH 223还具有先进的灰化功能,并具有选择性干灰化和均匀干灰化选项。选择性干灰化使蚀刻模型能够去除晶片表面薄膜和沉积物的局部区域，从而最大限度地提高工艺均匀性无金属区域。均匀的干灰烬使用均匀的工艺，在晶片表面形成均匀的沉积材料层。223还配备了负载锁减压设备，通过消除污染提高了系统安全性和过程稳定性。RTP控制软件通过强制低压操作、高均匀性和更高的等离子体密度提供了先进的过程控制，即使在低加速能量下也是如此。该装置具有良好的可重复性和最大的基板均匀性。总体而言，SEZ/LAM RESEARCH 223是一种先进的蚀刻和灰化机，适用于各种材料和工艺应用。该工具具有出色的蚀刻均匀性和先进的工艺控制。针对直径最大为8英寸（200毫米）的各种工艺晶片和非常低的压力,对资产进行了优化。该模型具有出色的可重复性和最大的基板均匀性，为用户提供卓越的蚀刻性能和生产吞吐量。