二手 SEZ / LAM RESEARCH 223 #293775128 待售

SEZ/LAM RESEARCH 223是为高性能晶圆加工而设计的先进蚀刻和灰化设备。该系统被设计为一个灵活的解决方桉，对于灰化和蚀刻的应用，目标是显着降低周期时间和提供优越的过程控制。它具有独立或自动化的操作功能,适用于完整的晶片处理和部分晶片处理应用,晶片与晶片的一致性小于5%。该单元还在全晶片和部分晶片蚀刻和灰化过程之间提供了卓越的工艺可扩展性。SEZ 223包括一个高效、可扩展的过程室和一台先进的计算机自动化过程控制（CAPC）机器，用于全晶圆或部分晶圆过程控制。它旨在提供高度准确和可重复的蚀刻和灰化结果,而无需操作员干预。腔室设计包括一个200毫米晶圆压板，带有两个NO FAB®浮动支撑臂，可优化处理较小的基板。其腔室容积为3300升，配有可调气体分配工具，用于原位氧化防护，可调流量比用于蚀刻和灰化控制。LAM RESEARCH 223包括具有实时晶圆温度监测和MFC by压力回路控制模块的高级闭环资产。该模型用于准确控制沉积和蚀刻速率，以产生一致和可重复的结果。此外，设备还配备了专用的集成清洁系统，以便在各个晶片工艺之间进行完整的蚀刻/灰分清理。这个单元包括一个两步走的方法，其中包括一个直接吸水冲洗，然后一个氮气定向清洗和等离子体，以确保一个完整的清理腔室。223还包括一个CORE Automation®软件套件,以确保准确的流程参数设置和遵守。此通用软件允许用户自动执行流程设置、执行、传输和跟踪。它还具有可靠的批处理功能,可跨多个系统分配工作负载。总体而言，SEZ/LAMS RESEARCH SEZ/LAM RESEARCH 223是一款先进的蚀刻和灰化机，旨在最大限度地减少循环时间，改善过程控制和一致性，取得可靠的效果。凭借其全面和先进的功能,此工具提供了适合各种应用的可靠蚀刻/灰烬解决方桉。