二手 SEZ / LAM RESEARCH DV-34 #293754183 待售

SEZ / LAM RESEARCH DV-34
ID: 293754183
晶圆大小: 8"- 12"
Single wafer etcher, 8"- 12" (4) Chambers.
SEZ/LAM RESEARCH DV-34 蚀刻器/aser是一种功能强大、可靠且经济高效的干式蚀刻设备,设计用于体积和PML清洁生产应用。该系统通过优化等离子体均匀性,提供了卓越的蚀刻质量和均匀性。它在所有蚀刻步骤中都表现出色,也适用于氧化物、氮化物、聚酰亚胺和金属,包括钨和铝。通用的工具集还允许蚀刻精确的地形特征,如字符串、插槽和柱子。这种先进的干蚀刻器能够在0-750摄氏度的温度范围内工作,并具有多种蚀刻化学物质,包括氧气、氯气、氟硅烷和四氟化碳。该单元还具备可定制的自上而下和自下而上的等离子体控制的大功率RF,根据需要进行蚀刻修改,并配备易于使用的远程操作控制台,用于等离子体均匀性控制。通过可选的密封石英单晶片存在传感器和自动排气,提高了成本和运行效率,以保持一致的蚀刻室性能。SEZ DV-34蚀刻器采用了大量硬件冗余功能,可实现最大的正常运行时间和最高的可靠性,而且维护最少。3G/4G/5G Plasmalab腔室设计用于在单个负载下清洁数十个晶片,能够提供出色的temerature均匀性。它与坚固和精致的PECVD薄膜兼容,并提供可选的BPSG层间支持。它也有一个集成的热/地图烘烤阶段,具有用于过程增强和温度均匀性控制的超平热板。该蚀刻器旨在遵守严格的出口管制规定,并包括多种工艺验证选项,以确保准确性和可重复性。它还配备了一个创新的晶圆跟踪机器,用户可以快速找到他们的晶圆快速检索。整个单元进行高周期到周期的稳定性测试,以增加过程控制。LAM RESEARCH DV-34是一款功能强大的干式蚀刻机,是满足苛刻蚀刻和清洁生产风险的理想解决方桉。它坚固、经济高效,具有高等离子体均匀性、出色的蚀刻质量和均匀性,以及广泛的硬件冗余功能,可确保正常运行时间和可靠性。它还被设计为遵守出口法规,并配备了创新的晶圆跟踪工具。
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