二手 SEZ / LAM RESEARCH RST 201 #9228278 待售

SEZ/LAM RESEARCH RST 201 蚀刻器/asher是一种自动化真空设备，设计用于执行半导体晶片的蚀刻、切割和涂抹过程步骤。SEZ RST 201系统使用下游等离子体源，使广泛的材料可以以高可靠性、均匀性和可重复性进行处理。加工室采用不锈钢建造，内部容积8立方英尺。环境单元压力由两个300 sccm涡轮分子（TMP）泵保持在10-6 torr，在泵进气口形成压差。LAM RESEARCH RST 201还包括一台溷合锁荷机，能够快速撤离锁荷室，在装卸物料时绕过主泵。此外，该工具还包括一个化学源喷射器、四个各向异性蚀刻模块，以及一个提供晶圆蚀刻粗糙度实时监测的在线光电二极管监测器。在RST 201资产上可实现的工艺包括氧化物蚀刻和条带、氧化硅条带、化学机械抛光、深层反应性离子蚀刻（DRIE）、切割、剥落和涂抹。通过利用射频等离子体源，模型能够以高精度蚀刻各种材料，同时提供干净且高度均匀的侧壁。化学源喷射器有助于输送蚀刻过程所需的化学前体，而四个各向异性蚀刻模块提供必要的横向过度蚀刻，以产生光滑且成角度的轮廓。SEZ/LAM RESEARCH RST 201兼容多种晶圆尺寸和材料，使其成为蚀刻和加工半导体晶圆的理想工具。该设备还具有用户友好的图形用户界面（GUI），简化了系统的设置和操作。该设备经过CE认证,提供卓越的精度、一致性和可重复性,以及较低的刀具停机时间。