二手 SEZ / LAM RESEARCH SP 201 #9174299 待售

SEZ/LAM RESEARCH SP 201是一种等离子体蚀刻器/asher设备，设计用于生产高质量的薄膜工艺。该系统能够处理各种基材，包括铝、铜、多晶硅、镍和其他通常用于先进微电子器件制造的材料。SEZ SP 201利用标准蚀刻化学技术，如反应性离子蚀刻（RIE）、化学气相沉积（CVD）和离子植入技术。该装置还配备了先进的基于光学的晶圆对准机，确保了对工艺几何形状和轮廓的精确控制。LAM RESEARCH SP201可以配置多个晶圆室和不同过程的室,从而允许在生产环境中进行多任务处理。此功能允许工具在不增加资产硬件需求的情况下完成更复杂的任务。SP 201的腔室压力使用一系列阀门和真空泵维持。真空压力由精密量表监控，模型能够在晶圆上产生10-5 Torr左右的真空压力。SP201利用含有惰性气体的气体溷合物，如氙气或氮气，以及氧气或氟气等反应性气体。通过建立合适的气体质量流速，可以获得所需的蚀刻深度。气体通过质量流控制器实时监测，确保蚀刻过程的正确速率。晶片在蚀刻时保持在高负偏置下。晶片放置在ElectroStatic卡盘上并固定,以便在蚀刻过程中不产生振动。最后，LAM RESEARCH SP 201包含一台高功率射频发生器，产生高水平的射频能量。这种电能用于产生蚀刻反应所需的等离子体。通过控制发电机的功率水平和脉冲宽度，可以保持对蚀刻过程的精确控制。最后，SEZ/LAM RESEARCH SP201是一种先进的蚀刻/粉碎机设备，设计用于生产高质量的薄膜工艺。该系统非常适合生产环境，可控制蚀刻深度、精密晶片对准和腔室压力。该机组使用惰性和反应性气体、ElectroStatic Chuck和大功率射频发生器进行有效蚀刻。