二手 SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9206214 待售
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已售出
ID: 9206214
晶圆大小: 8"
优质的: 2002
Spin etcher, 8"
Indexer type: 200 mm
Handling type: FS/BS
Main unit: SMIF
Heating system: RT to 65°C
CDS System: With buffer station
Standard pin chuck: 200/200/200
SMIF Type: 200 mm
End effector
ECO Gripper loaded / Unloaded
Robot system
Media flow meter
DI Flow meter
Pressure regulator for N2 & CDA
Exhaust system up
Suction nozzle
Heater exchanger (HEX) for Med 1, Med 2
Mini-environment with FFU
DI & N2 Filter set
Power distribution box
Standard PC for SP203
Status lamp (RYGB)
Buzzer
Chemical dispense system:
Chemical cabinet with flexible filling
Chemical control cabinet
Temperature: Medium 1 / for Ti/TiN chemistry
Temperature: Medium 2 / for Al chemistry
Chemical control cabinet
Options:
Transformer
UPS
Standard chuck
Ionizer
N2 MFC
Concentration monitor
Not includes:
Megasonic
Under cut rinse
CO2 Injection
Endpoint detection
IR Dry lamp
Maximum voltage: 230 ~ 380 V
CE Marked
2002 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH SP 203是一种高性能蚀刻/灰分设备，具有可调气体配方，专门设计用于提高各种反应性离子蚀刻和灰分工艺应用的吞吐量。该系统具有独特的工艺室设计，提供了一个非常大的气体量，以确保一致的气体输送和均匀的等离子体密度。SEZ SP 203还可以加工尺寸最大为25英寸的基板，最多有10个气体通道进行多次蚀刻。该装置还包括先进的诊断能力，使用户能够监测选定的等离子体参数，并对腔室环境进行实时调整，以便进行准确的过程控制。它还具有先进的有源离子密封特性，提高了工艺的可重复性，消除了手动屏蔽的需要。机器上的过程控制选项是健壮的，包括独立调制离子源、基板偏置和腔室温度的能力。利用此功能,用户可以对工艺进行精细调整,以优化其特定材料和工艺条件的结果。该工具还提供手动和自动控制,以帮助简化资产操作。LAM RESEARCH SP 203是一个全面的蚀刻/灰分模型，能够处理各种材料。其先进的诊断、可调气体配方、精细可调的工艺参数，使其成为介电和金属蚀刻、灰化、变薄、薄膜沉积等多种应用的理想选择。它是各种半导体元件制造中提高吞吐量的有效解决方桉，如内存芯片、微控制器、显示驱动器和其他半导体器件。
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