二手 SEZ / LAM RESEARCH SP 203 #9228170 待售

SEZ/LAM RESEARCH SP 203是一种先进的RIE（反应性离子蚀刻）蚀刻设备，设计用于生产和开发复杂的表面微机械结构。这种通用的蚀刻系统几乎能够蚀刻任何表面，包括硬质和软质材料。它具有先进和高效的高级等离子体源（APS），由强大的气体和两个独立的原子源溷合而成，使其能够同时进行各向同性和各向异性蚀刻。另外，SEZ SP 203配备了强大的电子回旋共振（ECR）源，在蚀刻过程中提供了非凡的均匀性和选择性。LAM RESEARCH SP 203是对多种材料进行高精度蚀刻的理想选择，包括但不限于半导体材料如Silicon, Gallium Arsenide, SiC, GaN, InGaAs,以及电介质如二氧化硅,氮化硅,聚酰亚胺,聚硅,玻璃。这种先进的蚀刻装置也可用于蚀刻铝、钛等金属，以及用于生产MEMS（微机电系统）装置的其他材料。该机配备了最先进的灰烬密封过滤器工具（ACFS），用于蚀刻废物密封和过滤。这种高效的ACFS提供了改进的蚀刻操作,减少了环境占用、降低了成本并改进了过程控制。SP 203还能够通过高级流程控制器和监控资产进行流程控制。这种先进的监控模型可以用来监控和分析蚀刻设备的性能。SEZ/LAM RESEARCH SP 203还配备了用户友好的液晶触摸屏用户界面，用于简化操作和调整蚀刻参数。此外,此高级蚀刻系统与ESISEZ软件兼容,允许用户监视和控制蚀刻过程的各个方面,并分析该过程的结果。SEZ SP 203具有先进的等离子体源、坚固的ACFS废弃物过滤装置、高效的过程监测机、用户友好的界面，是微加工结构生产开发的理想蚀刻工具。