二手 SPI Plasma Prep II #293617060 待售

SPI Plasma Prep II是一款蚀刻器/asher，设计用于在半导体器件制造、制药制造、现场分析、研发等多种应用中对样品进行精密蚀刻或灰化。此设备的多功能性确保它能够满足各种蚀刻/ashinig应用程序的需求。该设备由高功率射频发电机、等离子体室、液体冷却系统、真空泵和自动化过程控制器组成。该装置的设计是为了在每次蚀刻或灰化过程中提供最大的重复性和准确性。该设备采用安全协议和功能,如隔离射频连接和安全门互锁,可防止意外暴露于危险的高射频水平。高功率射频发电机提供驱动蚀刻和灰化过程的能量。等离子体发生器具有调制0-500瓦功率输出的能力。等离子体发生器的频率也可以很容易地调整，以满足特定蚀刻/灰化方向的需要。蚀刻/灰化样品放置在等离子体室内。该腔室设计用于保持样品的稳定压力环境，并包含产生的等离子体。该腔室具有一个大的查看端口,允许用户目视观察蚀刻/灰化过程。腔室被液体冷却机包围，该机可消除废热并保持工具的安全运行温度。资产的真空泵负责清除不需要的颗粒，以及消散等离子体过程产生的氢和氧。此功能使模型能够清晰高效地运行,并最大限度地提高蚀刻/灰度精度。自动化的过程控制器允许用户轻松编程所需的过程蚀刻/灰化参数。它旨在与腔室和等离子体发生器通信，以提供准确的过程反馈，以确保最大程度的重复性。Plasma Prep II是一种可靠而坚固的设备,设计用于各种应用中的样品精密蚀刻和灰化。它具有先进的安全协议、高功率射频功能、稳定的压力环境、先进的冷却系统、高效的真空泵和自动化的过程控制器。该装置高度可靠，是各种蚀刻和灰化工艺的理想选择。