二手 SPTS LPX APS Pro #9294793 待售
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已售出
ID: 9294793
晶圆大小: 8"
优质的: 2014
Etcher, 8"
Single chamber (Aluminium)
Load-locked
Capable, 8"
Process chamber: APS PM
APS PM Chamber:
SiC / GaN
Oxide
Nitride
Deep oxide
Glasses
Sapphire
PZT / Pt
LPX Single Wafer Load Lock
Multiplex ICP process chamber:
Magnetic and heated chamber
LEYBOLD Turbo pump
Heated VAT pendulum valve
Backside helium cooling
Extracted gas box with orbitally welded gas lines
Electronics Rack
LCD flat panel monitor
MKS Capacitance manometer (0.1 Torr)
MKS Spectrum RF generator (Source)
MKS Spectrum RF generator (Bias)
VERITY optical endpoint detector
EDWARDS iH80 vacuum pump (or equivalent)
ALCATEL ACP28 vacuum pump (or equivalent)
SMC Thermo chiller
System cables
Gas box: N2, SF6, He, Ar, O2
Operations manuals
Electrical drawings
Documentation (Complete manual set)
System power: 400 V, 80 A, 50 Hz, 3 PH+N
2014 vintage.
SPTS LPX APS Pro是专门为研究和工业应用而设计的先进晶圆加工蚀刻和灰化设备。该系统由一个先进的SmartProcess™平台组成，具有前端装卸以及现场过程控制和监测方面的最新技术。该设备设计得非常可靠、快速、高效,提供出色的用户友好性、可扩展性和灵活性。其主要特点包括：高蚀刻和灰化效率--该机配备先进的等离子体发生器和先进的气体溷合系统，对蚀刻和灰化过程提供卓越的精度和控制。这允许用户通过更少的迭代和更短的处理时间来获得更好的吞吐量。SmartProcess™平台-该工具配备了高级流程自动化平台,允许用户自定义其流程参数和设置。这使用户能够根据自己的特定需求优化资产,并最大限度地提高效率和性能。现场过程控制和监视-该模型配备了强大的过程监视设备,可对蚀刻和灰化过程进行实时监视和控制。这允许用户快速识别任何潜在问题并相应调整其流程设置。多功能性-该系统用途广泛,可用于不同类型的晶片,如硅、绝缘子上硅（SOI）、外延和砷化氙（GaAS）。此外,该单元还可用于广泛的应用,如光刻、深反应性离子蚀刻（DRIE）和离子铣削。易于使用-计算机具有直观的用户友好界面,允许用户快速轻松地设置流程。此外,该工具还包括全面的文档和培训材料,使用户能够快速轻松地掌握资产。高精度工程-该模型采用高精度工程设计,具有卓越的精度和控制能力。此外,它还设计用于延长使用寿命和降低维护成本。可扩展性-设备采用模块化组件设计,可轻松配置以创建更大、更复杂的蚀刻和灰化系统。总体而言,LPX APS Pro是一个先进的蚀刻和灰化系统,它结合了尖端技术和高精度工程技术,以实现最佳的效率、性能和准确性。它既适用于研究，也适用于工业应用，设计为高度可靠、快速、易于使用。
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