二手 STS / CPX Multiplex ASE ICP #9147808 待售

STS/CPX Multiplex ASE ICP（电感耦合等离子体）是一种用于生产和制造集成电路芯片（IC）和其他微电子器件或元件的蚀刻器/灰化器。它是一种高精度的微型制造工具,用于在半导体表面（如铜或金散热器）上创建超精细特征。STS Multiplex ASE ICP通过在真空室或工艺室内电离合适的气体来工作。这种气体通过室内的感应而被电离，从而从气体粒子中产生等离子体。此等离子体随后被用于从目标基板上蚀刻或"蚀除"小的精确特征。ICP技术可用于各种应用，包括：半导体表面上元素的精确图样、分段结构中的通气和接触的平面化、绝缘体层的蚀刻和精确的铜种子层图样。CPX Multiplex ASE ICP具有广泛的特性，使其成为许多微加工工艺中有吸引力的蚀刻器/asher选择。该蚀刻器具有较高的生产精度，单晶片蚀刻反向速率高达500 nm/秒，分辨率为0.25 μ m。它配备了具有16位可编程分辨率的高度精确、多轴扫描设备，可以在x-y和z-axes中实现复杂几何形状的精确特征阵列。该工具与各种晶圆尺寸和材料具有兼容性，包括石英、硅、铝和GaAs基板。再者，它也配备了真空锐化系统，它允许一个精密的蚀刻过程与最小化的过程时间。这使得Multiplex ASE ICP成为高性能和高通量批处理过程的理想选择。总之，STS/CPX Multiplex ASE ICP是一种能够实现高精度特征蚀刻和灰化的高精度工具。其广泛的特性和应用兼容性使得它成为许多半导体制造工艺的理想选择。其高精度的扫描单元和真空锐化机也是使该工具成为微加工工艺可靠高效选择的关键特征。