二手 STS / CPX Multiplex ASE #9118795 待售

STS/CPX Multiplex ASE是一种先进的asher/etcher，旨在在半导体制造工艺及相关应用中提供高效可靠的氮氧等离子体蚀刻。它是一种单室设备，能够使用氮（N）或氧气（O）气体进行反应离子蚀刻（RIE）。该系统适用于小批量和大批量生产，提供卓越的性能、准确性和可重复性。该单元由一个排空过程室和一个外部安装的射频发电机组成，可提供高达6000瓦的功率。它是用一个分离的射频发生器建造的，这有助于保持不同类型和直径的晶片上均匀的蚀刻特性。射频发生器还能够提供高达1000伏的电压,使其能够在更高的压力（最高5 torr）和更高的蚀刻速率下运行过程。STS Multiplex ASE包括一台通用性气体喷射机，流量范围为0至300 ml/min，使其能够处理干式和湿式蚀刻。该工具能够处理所有标准蚀刻化学，如CF4、CHF3、C4F8、CH2F2、Ar、He和SF6。其气体输送效率极高、经济，浪费最少，无化学污染。CPX Multiplex ASE配备了集成的数字压力控制器，使用户能够精确控制腔室压力。它还具有内置的高精度温度控制资产,可确保样品温度在处理过程中保持稳定和准确。自动数据记录功能记录所有相关的过程参数,如气体流速、腔室压力、电压水平和样品温度。这确保了工艺条件的可追踪性和可重复性。最后，一个独特的腔室"视图"功能让使用者可以从单元外看到腔室的内部，更容易检查腔室和取样条件。该型号还设计为与大多数外围硬件兼容，如真空泵、射频发电机、温度控制器等。综上所述，Multiplex ASE是一种先进的半导体基板等离子体蚀刻技术。它是一个集成的单室设备，具有通用的气体注入系统，高精度的温度控制单元，数据记录，以及易于使用的用户界面。适用于小批量和大批量生产，是半导体制造工艺可靠、经济的选择。