二手 STS Multiplex ICP HR #293622448 待售
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ID: 293622448
优质的: 2001
Deep Reactive Ion Etcher (DRIE)
Chamber
(2) Electronic racks
(6) PCB:
V.A.C.3.Y
A.M.C.1A
H.B.C.2
H.C.U.3
H.C.L.1
2001 vintage.
STS Multiplex ICP HR是一款专为半导体制造和研究应用而设计的健壮蚀刻器/asher。这台高度通用的机器能够进行蚀刻、灰化和浅层采样。Multiplex ICP HR配备了先进的多区石英晶体微平衡（QCM）设备、旋风淋浴头和自动晶圆处理系统。高精度的QCM单元可以精确控制蚀刻过程,确保从低电阻率到高k电介质等多种材料的最佳性能。旋风淋浴头提供了卓越的蚀刻均匀性，对于复杂结构的制造尤为重要。此外，晶圆处理机使多达999个晶圆可以一次处理，并且可以在处理过程中自动检测、传输和索引晶圆。STS Multiplex ICP HR设计为使用多种设备,允许用户根据其应用程序的具体要求调整其流程。其先进的表面安装技术为表面选址控制提供了平台，允许用户在蚀刻前在目标位置放置标记。此外,机器的各向异性加载功能允许用户在蚀刻过程中精确设置蚀刻角度。最后,可以将Multiplex ICP HR的多种功能集成到全自动追踪系统中。这样可以确保所有流程都能在最高质量保证标准的范围内高效、准确地执行。总体而言,STS Multiplex ICP HR 蚀刻器/asher为半导体制造和研究应用提供了一个可靠而精确的工具。其先进的QCM工具、旋风淋浴头和晶片处理资产结合了可定制的选项,为用户提供了一种通用、高效的蚀刻、灰烬和浅层采样晶片的方法。Multiplex ICP HR能够快速处理多达999个晶圆并确保最高的质量保证标准,可大大提高任何蚀刻过程的效率。
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