二手 STS MXP Multiplex ICP HR #9005443 待售
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ID: 9005443
Advanced Silicon Etcher (ASE)
Process: Silicon etch bosch
Capable, 2"-8"
EDWARDS E2M40 Loadlock pump
PFEIFFER MAG 2000 High vacuum pump
EDWARDS IQMB250 Roughing pump
EDWARDS IQDP80 Roughing pump
ENI / ACG-3B RF Generator
ADVANCED ENERGY RFG 3001 RF Generator
Loadlock
(4) Gases
HUBER Unistat Chiller, 140 W
Gases: SF6, O2, Ar, C4F8
Balun coil ICP V2
Mechanical clamp
Helium backside cooling
(2) MkIV MPX Carousel, 6"
Power supply: 3 kW, 300/30 W Platen
Purge gas line
E-Rack modules:
HCL1
HCU3
HCU5
VAC3Y
(2) AMC1
HBC2
Operating system: Windows 2000
Power supply: 400 V, 50 Hz, 40 A, 3-Phase
Configured Power supply: 60 Hz, 208 / 460, 3-Phase
CE Marked
2003 vintage.
STS MXP Multiplex ICP HR是一种高级的高分辨率蚀刻器/asher,旨在弥合多个进程之间的差距。它利用高分辨率、多路复用和ICP（感应耦合等离子体）过程来最大化精度、产量和吞吐量。该机器的高分辨率功能由其最先进的成像设备实现。该系统能够根据应用程序调整蚀刻分辨率,允许分辨率高达18um（微米）。它还具有自动对齐和工艺优化单元，以确保蚀刻的均匀性。多路复用过程允许大量晶片同时处理，减少过程变化，提高产量。ICP工艺创造了比其他蚀刻方法更强大、更一致的蚀刻速率，这对关键和半导体应用非常有利。蚀刻器/asher还具有出色的硬件功能,使其功能更加强大。它的大型自动化装载机使得一口气处理多个晶片更加容易。它还带有一个特殊的、封闭的ICP腔室，它使环境无灰尘，提高了工艺的功效。MXP Multiplex ICP HR也能够集成到清洁室环境中。其独特的设置允许更高水平的制造过程控制，使其成为精密过程的理想选择，如半导体和医疗设备生产领域的精密过程。STS MXP Multiplex ICP HR是一种出色的蚀刻器/灰化器,可用于多种不同的制造工艺。它具有高分辨率、多路复用和ICP功能,非常适合精确度是关键的应用程序。它也非常适合洁净室环境，是任何需要高度工艺控制和精确度的生产环境的理想选择。
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