二手 STS Pegasus DRIE #293596360 待售

STS Pegasus Deep Reactive Ion Etcher （DRIE）是一种强健、高性能的生产蚀刻器/Asher,能够提供深反应性离子蚀刻（DRIE）工艺,以精确创建具有高垂直长宽比的特征。STS飞马DRIE蚀刻器的等离子体源产生的高能离子精确地指向工件表面。这些高能离子用于蚀刻基板的目标区域，而石墨壁屏蔽则用于保护其他区域不受蚀刻过程的影响。飞马DRIE前沿技术的核心是高压电源和强大的2.45GHz微波等离子体源。其先进的来源，专为DRIE工艺而设计，产生多种离子，气体利用效率高。该设备采用所有数字控制器以及复杂的过程控制算法，使用户能够实时监测和控制其配方。STS Pegasus DRIE蚀刻器的电源经过专门设计,能够提供高效且可重复的工艺配方,而且精确度非常高。室内温度、压力、功率等变量在聚合物处理协议内进行精确管理。此外，飞马DRIE蚀刻器配备了DCMS CoreShield，这是一套特定的安全特性，也有助于蚀刻工艺的精确度。这包括一个双压力差分系统，用于测量工艺室与排气管之间的压力，以及自动关闭装置，当检测到过大的压差时停止该过程。STS飞马DRIE蚀刻器非常适合各种基材，包括硅、石英、玻璃、陶瓷等材料。这个多基板平台为各种产品设计提供了最大的兼容性。蚀刻器支持广泛的特征大小,能够精细控制蚀刻轮廓以及高长宽比。整个机器足够灵活，可以处理大面积基板、小面积基板包括补丁、晶圆，甚至包括金属和玻璃在内的硬质非多孔材料等多种应用。总体而言，飞马DRIE是高长宽比、深反应性离子蚀刻工艺中最可靠、最先进的蚀刻工具。凭借其先进的电源、电源和安全功能,用户可以通过其工艺配方以及可靠、可重复的结果获得最高的精度和准确性。