二手 TECHNICS Micro RIE 800 #9124004 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 9124004
Table top system
For parallel plate plasma processing
300W RF Power supply with matchbox
(3) MFC Process gas controls
(2) 100 sccm
25 sccm
RIE Bottom electrode SST chamber, 9”
Electrodes water chiller:
Electrode cooling inert fluid prepared pump
Oil filtration system.
TECHNICS Micro RIE 800是一种蚀刻和灰化机,设计用于高精度工艺。该机设计用于精确、可重复地控制蚀刻和灰化过程,提供对蚀刻和灰化参数的终极控制。它使用静电卡盘在蚀刻和灰化操作中将基板牢固地固定在适当的位置。此蚀刻器/asher由于其独特的设计特性而具有出色的性能标准。它有四个独立的静电卡盘站,具有可调的腔室压力设置,使用户能够优化每个单独作业的设置,从而提高吞吐量,节省成本并减少磨损。它的高分辨率热成像系统,连同它的软件,使高精度蚀刻和灰度具有均匀性和可重复性。腔室盖还具有内置冷却管理功能,可提高工艺的均匀性、可重复性和准确性。该模型专为半导体、微电子和生物芯片行业的特定应用而设计。它提供了多种单独和多个基板蚀刻和灰化功能,以及根据应用调整工艺参数的能力。它还具有快速的单个晶片模式识别功能,为用户提供了优化蚀刻工艺参数的可能性。在技术方面,Micro RIE 800的分辨率为25 μ m,与硅/二氧化硅、二氧化硅、氧化铝、钨和钛等一系列材料兼容。采用低电感三相电源,它需要低于10 mT的低压要求,确保精确控制和过程可重复性。它还具有低感应气体供应,保护电极免受污染,并确保高质量的蚀刻/灰化结果。总体而言,TECHNICS Micro RIE 800是一款可靠、高精度的蚀刻器/asher,具有多种先进的功能,使其适合半导体、微电子和生物芯片行业的各种应用。它的分辨率、可重复性和精确度为用户提供了质量保证和改进的过程控制,从而降低了运营成本,提高了吞吐量并节省了成本。
还没有评论