二手 TEGAL 701 #104111 待售

製造商
TEGAL
模型
701
ID: 104111
晶圆大小: 4"
优质的: 1995
Plasma in-line etcher, 4" Process capability: 4" wafer with 15 wafer/ hour Utilities: N2: 10—20 psig SF6: 10—20 psig O2 :10—20 psig He : 10—20 psig Chilled water: 20—40 psig For RF supply Electrical power: 110 VA, single phase, 50/60 Hz For Vacuum pump 208 VAC, 15 Amp 1995 vintage.
TEGAL 701是一种高分辨率、计算机控制的干蚀刻器,设计用于小晶片和基板上的微结构。它是一种通用的蚀刻工具,可以处理广泛的蚀刻过程,使其成为研究和生产应用的理想选择。701利用高级软件系统监控蚀刻过程,允许用户自定义蚀刻参数以获得最佳效果。该蚀刻器具有控制蚀刻速率、基板温度、蚀刻角和气流的多种选择。此外,先进的自动压力控制(APC)系统可确保腔室内的压力保持不变,而与所使用的化学成分无关。TEGAL 701还提供了自动快速转换(QCO)功能,这有助于在不同的蚀刻过程(如从湿蚀刻到干蚀刻)之间高效、安全地传输晶片。这确保了一贯的高质量蚀刻性能,而无需花费额外的时间来提高蚀刻速率稳定性。701还为硅、金属、陶瓷、半导体材料等多种材料的等离子体蚀刻提供了高度的灵活性。该蚀刻器包括一个特别设计的热等离子体源,能够达到高达1000°C的温度和最小的等离子体损伤。此外,该蚀刻器还提供低浓度、惰性气体溷合物和高压纯气体蚀刻的低压真空蚀刻。TEGAL 701还能进行深度蚀刻,垂直分辨率为250 nm,水平分辨率为75 nm。此外,它内置的实时晶片跟踪系统允许用户准确精确地定位晶片进行蚀刻。总体而言,701是一款功能强大、灵活且可靠的干蚀刻器,可用于多种蚀刻工艺。其先进的控制软件、自动化的快速转换和高端蚀刻功能使其成为满足研究和生产需求的理想选择。
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