二手 TEGAL 901e TTW #9248952 待售

ID: 9248952
晶圆大小: 5"
System, 5" Missing parts: Process chamber Lower chuck Shuttle assy Sender and receiver modules AC Module Dacscan controller Matching network.
TEGAL 901e TTW是一种蚀刻器/asher,设计用于小晶片和基板的蚀刻和合金化。它提供单室处理,支持热处理,如RTP(快速热处理),离子辅助沉积(IAD)和生物膜沉积,证明高产量和快速周转时间。901e TTW采用12区石英管式炉,具有独特的挡板设计,可最大限度地提高均匀性和良好的压力控制,最大限度地减少泄漏。炉子有一个宽大的工艺包络,可以容纳6英寸的基板,最多可容纳12英寸。(300mm)等效横向均匀度。它还提供了出色的温度均匀性,极好的重复性和高吞吐量。901e包括0.5微米的计算机控制、高精度、高速x-y定位精度,以及用于高密度介电沉积的先进TEOS(原硅酸四乙酯)源。设备由高性能软件包控制,该软件包旨在提供过程自动化和灵活性,以及用户友好的图形用户界面,用于高效的基板计量。该系统还具有集成的等离子体源和石英管等离子体技术,为灰化和沉积过程提供专用靶膜的快速和可重复的等离子体沉积。该装置具有较高的沉积速率,非常适合于高性能MEMS和逻辑设备。TEGAL 901e TTW提供快速的响应时间、一致的一致性和高吞吐量。创新设计采用先进的热管理机器,最大限度地减少循环时间,避免表面污染。该工具是高度可靠和一致的,并严格测试每一个新的工艺配方。它的低成本操作,加上一个行之有效的成功记录,使得901e TTW成为各种晶圆和基材加工应用的非常理想的工具。
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