二手 TEGAL 903 #9210306 待售

TEGAL 903是一种简单且低成本的蚀刻/灰化设备，设计用于生产高质量的金属和化合物。该系统采用低压调制化学气相沉积（CVD）工艺，生产高纯度金属、合金和金属间化合物。它具有高达1000 °C的工艺室温度范围、大量的气体选择以及高达25 mbar的压力范围。903所实施的蚀刻/灰化工艺是基于两个重要步骤的组合：在目标基板上形成保护膜的CVD，以及去除基板上不需要的残留物的灰化。该装置还提供了可供CVD使用的最高沉积速率，以及与许多其他系统相比较高的化学纯度。此外，该机器被设计为在实验室或生产区占用很少的空间。TEGAL 903的低压CVD工具提供了最高的沉积速率,其沉积速率最高可达6.5 nm/s,最高可达30 nm/min,具体取决于材料和工艺参数。此外，该资产具有高达99.95%的稳固沉积均匀性，沉积精度高达0.02微米。这与良好的速率再现性相结合，使其适合于实现优异的基板表面质量和精确的薄膜沉积。903具有高精度、全驱动的基板支架，能够以高达每分钟五点五毫米的高速移动，以及一个保护室，以减少振动产生，最大限度地减少传热到基板，并保护模型免受臭氧和尘埃颗粒的影响。此外，一条额外的真空管线连接到安全工作室的外部，以疏散多余的气体，并从蚀刻/灰化过程中清除任何不需要的颗粒。TEGAL 903还有一个气体溷合装置，它允许对蚀刻/灰化过程中的气体成分进行精确的化学计量和非化学计量比率。该装置能够在一个循环中提供适量的多种气体，可以根据所需的条件和参数进行精确控制。驱动机构也采用风冷，确保运行稳定可靠。总之，903是一种低成本、高效、可靠的蚀刻/灰化设备，沉积速率、均匀性、准确性都较高。该系统不仅能够提供精确的气体溷合、强大的工艺控制以及免受外部污染物的影响，而且是希望生产高质量金属和化合物的科学家和工程师的理想选择。