二手 TEGAL 981 #9159791 待售
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ID: 9159791
晶圆大小: 8"
Etcher, 8"
Process: Nitride
Single chamber
Silicon nitride
Etcher
Chiller
Pump
Hazardous gases utilized: Oxygen (O2)
Chem class: Oxidant
Non-hazardous gases utilized / Chem class / Waste stream:
CDA / Non-flammable / Recyclable
Nitrogen (N2) / Inert / Recyclable
Helium (He) / Inert / Recyclable
Sulfur hexafluoride (SF6) / Inert / Recyclable
Carbon Tetrafluoride (CF4) / Inert / Recyclable
Non-hazardous liquids utilized:
Water process
Chem class: Recyclable
Waste stream: Recyclable
Mechanical systems utilized:
Acid exhaust (PES)
Chem class: Corrosive
Waste stream: Corrosive waste.
TEGAL 981是纳米制造行业的先进蚀刻器/asher。它是专门为微电子材料的精密蚀刻和灰化而设计的，采用了先进的等离子体生成技术。981结合了深反应性离子蚀刻（DRIE）和感应耦合等离子体（ICP）功能,提供了45nm以下分辨率特征的快速可靠蚀刻。TEGAL 981配备了广泛的加工室，允许广泛的蚀刻和灰化技术以及多种材料，包括硅、玻璃和陶瓷。它配备了13厘米长的泵送系统、RIE和ICP腔室，以及真空涡轮分子泵。这允许对蚀刻工艺进行精确控制，具有达到纳米级精度的能力。该系统还配备了额外的传感器和监视器，能够进行实时控制调整和优化，而内置的安全机制则确保了超低水平的污染。981最令人印象深刻的特点之一就是它的蚀刻均匀性。结合ICP和DRIE功能，可以蚀刻厚度均匀度高达1%的层。这使得它非常适合从金属层到绝缘体和金属氧化物的蚀刻材料。它还能够提供非常大的蚀刻深度，高达500 um，使其适合高长宽比处理应用。TEGAL 981由于能够同时处理多个工件，与其他蚀刻器相比也提供了经济高效的操作。这样可以大大节省材料成本和人工成本。此外,系统还配备了一系列高级功能,可在蚀刻复杂形状和特征时提供更大的灵活性,包括与各种CAD程序的兼容性。这使得它成为任何纳米制造需求的理想选择。
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