二手 TEGAL Chamber for 415 Plasma asher #293661204 待售

TEGAL Chamber for 415 Plasma asher是一种先进的蚀刻/灰化技术，用于半导体生产和研究。415等离子体灰烬能够在氧气或过程气体环境中进行快速蚀刻和灰化，并具有精确的温度控制。腔室占地面积很小，设计方便。它具有不锈钢内部和特殊的钨互锁腔室设计，以改善工艺气体分配的均匀性。该室配备了最先进的安全功能，如：安全联锁、双室压力监控器和安全关闭电磁阀，以确保安全运行。该腔室配备了小容量、峰值、中、超快射频发电机，可实现广泛的运行条件。它提供了高精度、可重复的蚀刻和灰化结果,低流量高达400 mmHg。该室先进的运动控制设备通过精确控制样品的位置来确保最大程度的过程均匀性。自适应控制的可渗透过滤系统有助于保持洁净室表面，防止带电颗粒污染。TEGAL Plasma Asher的腔室容量很大，可以处理高达244mm（正方形或矩形）的加工板尺寸。它还有一个数字气体压力控制单元，有助于限制空气中的颗粒污染，并允许非常精确的蚀刻过程。室内覆盖着最先进的加热机，对温度变化提供快速反应。415 Plasma Asher旨在通过满足客户特定的流程参数来提供一致的性能和可重复性。与现有的蚀刻/灰化技术相比,它易于操作和维护,旨在提高生产率并降低成本。它确保了高质量的晶片，并最大限度地提高了产量。其先进的安全特性和运动控制工具使其成为蚀刻和灰化工艺的可靠资产。