二手 TEL / TOKYO ELECTRON 308 SCCM #9266666 待售

ID: 9266666
晶圆大小: 12"
Plasma etcher, 12" TEL / TOKYO ELECTRON Telius DT Mainframe (2) TEL / TOKYO ELECTRON Telius AC Racks (4) KOMATSU FRV-6000-6 Chillers (4) KOMATSU FRV-6000-6 Chiller controllers (2) TEL SCCM DT.
TEL/TOKYO ELECTRON 308 SCCM是蚀刻器/asher的模型,设计用于从半导体表面蚀刻或粉刷薄膜。本机采用真空沉积、等离子体蚀刻、化学清洗等多合一工艺。它能够处理多达30个单独的晶片,并提供优越的晶片对晶片的均匀性和可忽略不计的氧化物残留物。TEL 308 SCCM 蚀刻器/asher具有高速处理室和自动化控制功能,可实现高吞吐量和可重复的过程控制。这台机器利用高可靠性的可靠气体耦合输送连接和高性能的等离子体阀提供可靠和可重复的过程。它的自动测试和教学模式允许操作员从标准配方和/或过程的视觉确认中建立所需的过程。该过程可以使用几个自变量来控制,包括射频功率输出、压力、流量和等离子体组成。该机配备了一台10 kW的射频发电机,具有用于蚀刻和灰化的功率调谐能力。该发电机的设计是为了提供最大限度的工艺支持和稳定性,即使在恶劣的运行条件和波动的气体供应。TOKYO ELECTRON 308 SCCM 蚀刻器/asher进一步配置了双激发等离子体源,提供均匀的等离子体密度,并延伸了可用蚀刻过程的范围。这一特性还降低了可能限制工艺产量和质量的等离子体不稳定性风险。其高端安全功能有助于保护操作员免受潜在危害。综上所述,308 SCCM是设计用于半导体制造的蚀刻器/asher。它提供了一系列功能,包括具有调谐功能的10 kW射频发电机、双激发等离子体源、自动化过程控制以及坚固的气体耦合输送连接。这台机器非常可靠,可提供高吞吐量、一致的晶片到晶片均匀性以及卓越的工艺效果。
还没有评论