二手 TEL / TOKYO ELECTRON Chemical Vapor Deposition (CVD) systems #293665947 待售

TEL化学气相沉积（CVD）系统是一种蚀刻/灰化系统,用于将材料薄膜以受控方式沉积在表面上。该系统将气相沉积的物理和化学原理与高温室工艺相结合，可用于多种用途。它能够将薄膜涂层精确地沉积到玻璃、金属和半导体级材料等基材上。在其核心，CVD是一种蒸气相过程，涉及将反应物气体（或气体）引入一个室内，在该室内，底物和加热表面保持高温。反应物气体与加热表面的反应在底物上产生所需材料的薄膜。这种膜通常很薄，往往具有致密和均匀的特性。CVD的常见应用包括沉积半导体芯片的介电和导电膜、太阳能电池的薄膜光学层、显示装置以及医疗和汽车部件的保护涂层。此外，该技术还用于沉积金属和陶瓷，用于腐蚀、磨损和热屏障保护。在操作过程中，系统由高真空室、供气管线、运动学真空泵和反应容器组成。在开始之前，真空室需要疏散到1 x 10-4 mbar的压力。达到真空后，将气体反应物注入反应容器，其中存在加热表面。气体会与加热表面发生快速放热反应，产生蒸气，在底物材料上形成薄膜。同时，反应物应以预定温度和精确量进入反应容器。根据反应物气体的状况，沉积过程的温度和持续时间应仔细控制。这样可以确保所需的薄膜高效、均匀地沉积在基材上。过程完成后，反应物气体关闭，反应容器降压。生成的薄膜根据其用途从基板上除去、收集并进一步加工。综上所述，TOKYO ELECTRON Chemical Vapor Deposition Systems提供了一种将材料薄膜沉积到基板上的精确可靠的方法。该工艺可根据所需材料和薄膜的确切规格进行调整。通过适当控制工艺的温度和持续时间，可以生产出均匀且高度致密的薄膜。这项技术在电子、航空航天、汽车和医疗等行业得到广泛应用，因为它在沉积薄膜方面的效率和有效性。