二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #293647205 待售

ID: 293647205
优质的: 2010
Diffusion furnace 2010 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H是一种专门为半导体加工而设计的蚀刻/asher设备。TEL Formula-1S-H是一个直接加热型蚀刻器/asher单元,配备独特的TEL原始脉冲CO2激光系统。高输出、高效的激光保证了蚀刻速率高、晶体损伤小。TOKYO ELECTRON Formula-1S-H还具有高精度温度控制系统,不仅确保薄膜均匀沉积在基板上,而且消除了不均匀的传热,确保了一致的蚀刻结果。Formula-1S-H还具有先进的温度控制和腔室设计,确保准确和一致的退火和蚀刻过程。退火和蚀刻工艺的温度可以精确调整,腔室设计最大限度地减少热传递,从而实现高效退火和蚀刻工艺。温度范围易于调节,腔室高度可调整至最佳蚀刻高度。TEL/TOKYO ELECTRON Formula-1S-H还设有一个专用的CO2激光系统,具有一系列的激光参数和激光功率设置,允许用户为自己想要的应用优化工艺。激光参数可根据应用进行调节,使用户可以达到精确的蚀刻特性。可调激光设置确保蚀刻工艺能够优化,达到精确的蚀刻深度和深度轮廓。TEL Formula-1S-H还采用了获得专利的CVD层增长技术,可以精确形成薄层。CVD层增长技术是一个减少处理时间、增加吞吐量、减少流程步骤数的单步流程。CVD层生长技术与III-V化合物、烟酸锂和氮化硼材料等多种不同材料兼容。总体而言,TOKYO ELECTRON Formula-1S-H是专门为半导体加工而设计的先进蚀刻器/asher设备。高输出、高效率的激光保证了蚀刻速率高,提供精确的温度控制和腔室设计,使用户能够实现薄膜的均匀沉积。可调激光设置确保蚀刻工艺能够优化,实现精确蚀刻特性,CVD层增长技术提供一步处理,减少加工时间,增加吞吐量。
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