二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula-1S-H #9382422 待售

TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K是为了半导体器件製造而优化的先进蚀刻/asher设备。利用原子层沉积（ALD）技术和高k介电材料，TEL公式ALD High-K提供了对蚀刻深度的精确控制和优异的选择性。这种先进的蚀刻器/asher具有可靠、可重复的真空工艺，能够在控制材料厚度的同时去除材料。其先进的冷却系统可确保整个晶片的快速、均匀的冷却速率,从而减少不需要的横向定义蚀刻。TOKYO ELECTRON FORMULA ALD High-K具有强大的高效电机，能够快速、精确的蚀刻技术来制造最新的半导体器件。其精密的沉积头保证了各种尺寸的基板蚀刻时的高选择性。Formula ALD High-K与各类基材兼容，包括硅、氧化硅、硅酸盐、钼酸盐、石英等，使其适合各种半导体器件的应用。该单元还支持使用高k介电材料，与传统溶液相比，它提供了优越的介电特性。TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K提供卓越的蚀刻均匀性，使其成为先进半导体器件设计的理想蚀刻器/asher。其先进的高k介电材料可确保出色的蚀刻效果,而不会牺牲兼容性或可靠性。其高效率的电动机允许高密度、高速的蚀刻，而其精确度保证了严格的结果与低总拥有成本。总体而言，TEL Formula ALD High-K是为制造最新半导体器件而优化的先进蚀刻器/asher机器。其精密可靠的真空工艺，加上与先进的高k材料的兼容性，使得该工具成为任何蚀刻或灰化工艺的理想解决方桉。因此，TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K是现代半导体器件制造的有力工具。