二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9253876 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K是一种先进的原子层沉积（ALD）设备。它是一种专门设计用于制造高性能半导体器件如纳米级晶体管和高k材料的蚀刻器/asher。TEL Formula ALD High-K提供高流程重复性、均匀性和可扩展性,同时提供成本最低的结构和产量最高的设备。其精密的工艺可靠性、均匀性和高产量的可制造性，使得高批量生产和可扩展性成为可能。TOKYO ELECTRON FORMULA ALD High-K的特点是升级了质量流量控制器（MFCs）,提高了精度,为用户提供了一个高度重复和可靠的过程。此外，监测温度和避免墙体沉积物在反应堆提供了有效和容易的配方控制。该系统还支持大型沉积区，使用户能够扩大生产能力。Formula ALD High-K提供了最先进的技术,旨在满足广泛的应用需求,如Advanced Power Devices （APD）、超高k材料和ULSI技术中的其他应用。TEL/TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K中一些最先进的工艺是其固相氧化铝沉积和原子氧工艺，用于生成高k材料。该单元还根据应用程序支持可自我配置的进程参数。TEL Formula ALD High-K配备了创新的TELCMIX排气模块，具有先进的多级过滤功能。这种高效的排气机有助于保持加工室内的最佳条件，并有助于减少颗粒污染。集成气体监测工具提供实时气体流量和压力控制，确保过程的重复性。该资产还得到TEL尖端TraxRecipe软件的支持，该软件借助易于使用的图形用户界面帮助用户创建自定义配方。TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K专为需要精确控制和可重复性的应用而设计，包括高k材料和纳米尺度晶体管。该模型适合于提供经济高效、可靠和高产的制成品，具有卓越的工艺重复性和均匀性。该设备非常适合制造高性能半导体器件和组件。