二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263878 待售

TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K（或FormulAlD）是为半导体制造工艺而设计的先进蚀刻器/asher。该产品是一个批量级、自给自足的设备，能够提供先进的蚀刻和灰化能力，以满足先进的半导体光刻生产需求。FormulAlD系统具有经过优化的双腔室体系结构，包括专利调制干蚀刻腔和性能卓越的蚀刻腔室。干燥蚀刻室允许最大的蚀刻速率,同时尽量减少污染沉积.该室采用一种专利双偏置技术，在每个循环中结合三个独立的频率控制高频脉冲，为各种材料提供前所未有的蚀刻速率。第一个脉冲用作预清洗过程，第二个和第三个脉冲提供精确、可重复的蚀刻，蚀刻表面的背衬最小。该室包括一个TEL安装的蚀刻显示器，具有实时监测和配方跟踪功能。第二室是针对先进金属和绝缘体材料进行了优化的先进灰化室。利用包括温度快速升高、两步加热和快速冷却过程在内的三级工艺,Asher能够蚀刻高达2000 nm/min的速率。腔室还利用一个非侵入性的直接测温装置，在灰化过程中不断监测晶圆的温度。此过程确保了均匀的灰化轮廓,且表面地形没有变化。除了双室架构外，FormulAlD机还具有众多技术，如可选的等离子体循环电路和sub-2 µm粒径控制。粒度控制设定点是可调的，加上3微米原位清洗工具，资产能够极低的污染水平。此外,该模型还具有可选的集成抗蚀剂条带通道,用于晶圆表面的后蚀刻控制。FormulAlD设备是市场上唯一的同类高级蚀刻器/灰化器。该系统能够对多种材料进行高级蚀刻和灰化，以满足最严格的几何要求，是大批量生产线的理想选择。该设备已在多个应用程序中进行了测试和验证,可提供可靠的性能以及更高的工作效率。