二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9263885 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K
ID: 9263885
晶圆大小: 12"
优质的: 2014
LPCVD Furnace, 12" Mid temperature heater: VCM-50-012L 2014 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K是一种反应性离子蚀刻器/asher,设计用于制造半导体工业中硅和其他基板的先进器件。该工具配备了高精度、最先进的等离子体源,可以在平面和3维结构中精确蚀刻或粉刷极薄的层(最低1nm)。该系统还具有先进的设备增强功能,专门设计用于减少蚀刻或灰化过程的过程时间,同时仍保持最高精度。例如,它配备了高频脉冲源以及改进的气体系统,以实现最佳蚀刻和灰化性能。此外,其独特的TEL Formula ALD High-K技术能够更好地控制等离子体特性和蚀刻精度。因此,这允许重现具有重复性和均匀性的高级蚀刻和灰度图样。此外,TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K支持使用各种气体,例如一些氟化气体,用于高度专业化的蚀刻和灰化工艺。它还具有使其能够制造各种材料层(厚度在1到25nm之间),并具有卓越的清洁度和准确性。此外,系统与多种底物兼容,包括硅化物、氧化物和高K电介质。当使用适当的安全措施和专业知识时,ALD High-K方程式可以提供可靠的蚀刻和灰化工艺,能够用硅和其他基板制造高性能、先进的器件。因此,它是半导体公司的宝贵工具。
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