二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K #9283434 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Formula ALD High-K
ID: 9283434
晶圆大小: 12"
Vertical LPCVD Furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K 蚀刻器/asher是一种先进的计算机控制蚀刻设备,用于制造半导体、MEMS和其他纳米设备。该系统利用原子层沉积(ALD)技术,在蚀刻过程中能够精确控制耐蚀性和/或可蚀刻材料。TEL Formula ALD High-K单元设有两个腔室:一个用于等离子体蚀刻,一个用于等离子体灰化。机器在单个腔室中使用单个晶圆传输工具执行这两种方法。资产具有上下感应射频源,提供均匀加热和可用于蚀刻或灰化的低功率源。它还包括一系列可定制的参数,以匹配工艺配方。该模型可处理多种抗蚀刻材料类型,包括SiO2、SiN、Si、AlOx、介电/半导电/聚合物/导电介电/金属等材料。软件可编程的蚀刻能力、压力和处理时间允许用户从广泛的配方中选择最佳条件。TOKYO ELECTRON FORMUM ALD High-K 蚀刻器/asher具有原位清洗能力,允许连续生产和更高的吞吐量。此外,事实证明,该设备在晶片上实现了平稳、均匀的蚀刻/灰化性能。这个先进的系统能够同时处理许多晶片,精确控制蚀刻/灰分参数和抗蚀条。该装置的高通量、均匀性和精确的蚀刻/灰分控制使其成为半导体制造、MEMS制造和其他纳米设备加工的理想工具。Formula ALD High-K 蚀刻器/asher以其精确的蚀刻和灰度控制,是任何纳米技术/纳米加工实验室的首选。
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