二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #293596097 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 293596097
Furnace Process: ALD High-K.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula是一款创新的蚀刻器/asher,专为半导体行业的各种器件制造工艺而设计。它由一个主蚀刻器/asher腔室、真空泵和系统控制器单元组成。TEL Formula 蚀刻器/asher利用高频负载、电源和高频放大器,创建蚀刻/灰分工艺,并将其应用到各种各样的材料上,如硅、砷、石墨烯等。TOKYO ELECTRON Formula的主室宽敞,允许更多的空间自由进出氦离子动力室。此外,系统控制器单元还能出色地控制工艺参数,包括蚀刻/灰分速率、压力、温度和其他参数。通过吸附的质子或中子在公式中启用蚀刻/灰分过程,这些质子或中子产生用于蚀刻或灰分基材的高密度离子等离子体。这个等离子体是通过一系列磁场和射频(RF)波形成的,使蚀刻/灰烬室受到一种离子轰击。这种轰击使基材的分子解离,从而在晶片上形成均匀的蚀刻或灰烬图桉。TEL/TOKYO ELECTRON Formula因其出色的蚀刻/灰分速率、灵活的腔室处理以及相对合理的成本,是各种制造工艺的理想解决方桉。它能够以高达1,000毫米/分钟的速率蚀刻/灰分基材,同样,它也能够灰分高达500纳米/分钟。这允许更精确和复杂的制造过程。再者,腔室提供各种材料的可靠处理,从除气树脂,光致抗蚀剂,和石英。最后,TEL Formula Etcher/Asher价格具有竞争力,使其成为许多半导体制造工艺的可行解决方桉。总之,TOKYO ELECTRON Formula Etcher/asher是一种用于各种半导体制造过程的可靠、高性能的器件。它配备了最先进的组件和流程,可提供精确、准确和高度可重复的蚀刻/灰烬模式。这一点,加上价格合理,使其成为许多流程的绝佳选择。
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