二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9098194 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula是一种在半导体製造领域使用的高度精密的蚀刻器和asher。它是为沉积和蚀刻工艺设计的单晶片系统，可用于半导体制造的各种步骤，包括薄膜沉积、蚀刻或化学机械抛光。此蚀刻器/asher的独特设计提供了快速的过程时间、更高的吞吐量和改进的过程一致性。TEL Formula利用多种等离子体来源对材料进行蚀刻和成形。此蚀刻器/灰化器具有真空和高压工艺室。真空室用于进行蚀刻、薄膜沉积或CMP工艺。高压室被用于提高生产率和产生更高质量的接口与基板。TOKYO ELECTRON Formula的创新设计基于提供高功率和低功率的双频RF发生器和短脉冲、高频RF发生器。这种设计的主要优点是它允许更高的蚀刻速率以及更好的表面均匀性。此外，双频发电机还实现了更快的处理时间和改进的过程控制。Formula的先进设计也使得能够使用较低的温度，允许改善材料的相容性和增加过程的灵活性。这项技术允许使用先进的材料和高性能的薄膜沉积工艺以及优越的蚀刻选择性。此外，TEL/TOKYO ELECTRON Formula还以全球入射频率控制为特色，以优化蚀刻性能和改进工艺控制。TEL方程式的整体表现令人印象深刻。这种蚀刻器/asher提供了出色的工艺重复性、高吞吐量和优越的蚀刻速率,使其成为各种半导体制造工艺的诱人选择。此外,先进的设计允许更快的处理时间以及改进的过程控制,使制造商能够获得更高的产量和精确的过程控制。