二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9121065 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula（TEF）是一个先进的半导体製造工艺蚀刻器/asher平台，提供卓越的精确度和材料去除过程的控制。TEF技术包括高精度压板、真空室和气体输送系统。顶板采用304L不锈钢制成，具有优异的耐磨性和耐腐蚀性。平板下方的高精度吸盘，即使施加大负荷，也能使晶片精确定位。真空室具有独特的配置，允许对蚀刻速率和均匀性进行更高的工艺控制。气流在闭环反馈系统内调节。所有必要的工艺参数都可以调整以达到所需的工艺结果。TEF 蚀刻器/asher平台具有高蚀刻速率和工艺产量、工艺重复性、均匀蚀刻等多项性能优势。高精度吸盘，直径30或50毫米，设计用于提供晶圆在蚀刻过程中的精确定位。这确保了统一和可重复的结果。真空室还具有均匀的气体压力和流速，以确保均匀的蚀刻。此外，能够很容易地调整参数，以便更好地控制蚀刻速率，从而最终导致更高的工艺产量。TEF平台配备了双轨技术，提供了常规蚀刻、定向蚀刻以及金属半导体蚀刻等广泛的工艺解决方桉。此功能旨在与许多蚀刻气体兼容,并使用户能够在应用程序中使用最高效的蚀刻剂来优化其过程。TEF平台还集成了三维轮廓监视器（TPM）,可帮助实时监控和调整蚀刻过程,从而提高工艺性能。总体而言，TEL Formula平台是一个先进的蚀刻器/asher专门设计，以最大限度地提高半导体制造工艺效率和产量。其高精度吸盘、均匀的气压和流速、双轨技术、TPM使用户能够对蚀刻工艺进行全面控制，从而获得卓越的工艺性能。