二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9250263 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Formula
ID: 9250263
晶圆大小: 12"
SiGe-POLY furnace, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Formula (TEL/TEF)是一种先进的蚀刻器/asher,用于集成电路的制造。这种专用设备作为多层光刻工艺的一部分,用于在晶片上蚀刻图样,在先进的半导体器件制造中已成为必不可少的。TEL Formula有模块化的设计,它可以执行广泛的蚀刻步骤。这包括手动和自动基板处理、晶圆级等离子体蚀刻、亚微米图样分辨率和晶圆级光涂。先进的蚀刻工艺提高了吞吐量和精度,可以创建变化程度非常低的复杂模式。TOKYO ELECTRON Formula使用等离子体蚀刻技术在晶圆表面上创建图样。在蚀刻过程中,具有可变压力和温度的先进等离子体源产生了一个等离子体环境,在该环境中蚀刻气体在腔室中产生一个活性物种,形成一个等离子体。然后将等离子体环境与特定的蚀刻气体结合使用,从晶圆中去除材料,形成所需的图样。公式还能进行电子束光刻和无掩蔽光刻。电子束光刻利用电子束在晶圆表面上精确绘制图样。无掩模光刻利用先进的激光快速蚀刻图样,精度远大于传统光刻技术。TEL/TOKYO ELECTRON Formula提供了极高的精确度和可重复性,其先进的蚀刻功能可轻松实现。此外,由于其模块化的设计,TEL Formula可以很容易地进行调整和升级,以满足现代半导体器件制造商不断演变的需求。总体而言,TOKYO ELECTRON Formula是一种先进的蚀刻器/asher,用于集成电路的制造。它使用等离子体蚀刻、电子束光刻和无掩模光刻的组合,在晶圆表面上蚀刻非常精确的图样。它的模块化设计允许灵活性和可升级性,使其成为半导体制造商所需的蚀刻解决方桉。
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