二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9384119 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula是为半导体制造应用而设计的先进蚀刻（或灰化）设备。该系统能够以高精度和重复性进行高度复杂的蚀刻过程。TEL Formula随附等离子源、清洁蚀刻真空室、等离子体发生器、端点硅记忆细胞处理器等多种不同的工具。这些组件共同设计为使用户能够进行化学机械平面化（CMP）、等离子体蚀刻和干蚀刻等过程。它还具有监视、测量和控制蚀刻过程的功能。TOKYO ELECTRON Formula中的等离子体源能够产生高度均匀且可重复的电离等离子体。这会产生一个一致的蚀刻模式,可以精确地沿着预期的路径定向。清洁蚀刻真空室使用户能够设置特定的蚀刻电压和气体流速，以确保均匀蚀刻。等离子体发生器为精确和可重复蚀刻提供了强大的能量来源。最后,端点Silicon Memory Cell处理器以等离子体发生器的功能为基础,允许用户存储和使用多达40种不同的蚀刻配方,只需选择一个按钮。Formula中使用的复杂控件使高级流程表征和监控成为可能。这些包括DC和RF蚀刻速率、DC： RF比、蚀刻深度控制、蚀刻后表面质量、线密度、迭加和排便。此单元还允许高度分析,并通过Meso-Cam机器实时显示蚀刻过程。此功能使用户能够在晶片区域进行磨练以获得更精确的蚀刻并观察蚀刻特性,而无需拉动晶片。TEL/TOKYO ELECTRON公式的先进特性有助于确保蚀刻工艺的质量和准确性。该工具提供了一个完整的蚀刻封装，具有执行干蚀刻、离子铣削、氧化物提升、深硅蚀刻和高长宽比蚀刻等精密工艺的灵活性。它还可用于使用反应性离子蚀刻（RIE）或碳辅助干蚀刻（CADe）对晶片进行后蚀刻清洁,从而改善工艺控制和提高产量。当与其他TEL产品结合使用时，TEL Formula为改进过程控制和产量优化提供了功能强大且经济高效的解决方桉。该资产旨在方便地集成到串联过程中,并且可以配置为满足特定的生产需求。此工具可帮助制造商更精确地控制流程,从而确保更高级别的产品质量和可靠性。