二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9384151 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Formula（TEF）是一种为了高通量和高度可靠的晶圆蚀刻而设计的蚀刻器/asher。它具有先进的光刻技术、薄膜沉积能力和高精度的反应性离子蚀刻（RIE）模块。TEF平台利用最先进的等离子体过程控制技术，确保最佳蚀刻均匀性、可重复性和过程覆盖率。它能够实现出色的蚀刻轮廓，在广泛的基材。TEF设备基于由射频发生器、蚀刻室和晶圆传递室组成的框状结构。射频发生器用于创建蚀刻晶片所需的等离子体。蚀刻室是一种半导体级石英室，对热应力和机械应力具有很高的抵抗力，使系统能够在最短的维护和停机时间内运行很长一段时间。晶圆传递室的设计使晶圆之间的时间最小化，允许连续蚀刻操作。TEF单元利用多种技术实现了高蚀刻精度和均匀性。先进的光刻和沉积工艺用于在晶圆表面上创建特定于特征的图样，并在整个蚀刻过程中形成稳定的蚀刻轮廓。这台机器还能够进行原子层蚀刻（ALE）的超细光刻图桉。该工具配备了实时蚀刻速率测量、端点感测和过程诊断能力等过程控制技术。这些技术用于监测蚀刻工艺的进展，并确保蚀刻特征的质量最高。TEF资产还设计有温度和压力控制能力，以提供整个腔室的均匀蚀刻。最后,针对流程自动化系统的集成设计了TEF模型.该设备配备了晶片手柄功能，能够与生产线中的其他加工工具集成，并提供晶片从一台机器到另一台机器的无缝过渡。这样可以提高吞吐量,而不会影响准确性或质量。