二手 TEL / TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M #293763486 待售
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ID: 293763486
晶圆大小: 12"
优质的: 2016
Vertical furnace, 12"
Process: Pyro
Air valve: CKD
VOS-56-101PT Heater
Process chamber
MFC, MFM: AERA
MAIN / APC: CKD
Gases: HCL, H2, O2, N2
Load lock system
Storage
4-Color signal tower
Carrier transfer
Load port: Side FFU
FIMS Port
Wafer transfer
Boat elevator
Auto shutter
Manufold scavenger
(2) Boat transfers
Boat stage
Manifold
Utility box:
WAVES Controller
GFC Display
Operation panel
Data I/O
Hardware switch
Gas unit
Cooling unit
APC controller
Temperature controller
Vacuum line
Power box:
EMO Unit
Control board
Hardware switch
Transformer
SCR Unit with controller
N2 Purge unit
RF Power
Rapid cooling unit
Pump box
Gas subsystem:
Gas supply unit
Exhaust
Vacuum line
Operating system: Linux
Power supply: 120/480 V, 3 Phase, Single phase
2016 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B M是由领先的半导体设备製造商TEL Limited（TOKYO ELECTRON）设计生产的蚀刻器/asher。蚀刻器/asher提供高级功能来处理高级设备制造的复杂要求。TEL INDY PLUS B-M是一种电感耦合等离子体（ICP）蚀刻器/asher，旨在优化半导体器件的生长和性能。它配备了用于生产工业标准、高精度设备的精确、高性能ICP源。即使在较高的蚀刻速率下,ICP源也能实现密集而均匀的蚀刻过程。该蚀刻器具有自动等离子发生器、工艺室、室顶控制设备、真空系统、反应性气体输送装置、泵和控制器组件。真空机配备了提高性能和可靠性的双泵配置，以及优化真空质量的气体扩散屏障和真空传感器。反应性气体输送工具能够精确控制精密蚀刻操作的蚀刻条件。该工艺室支持多个进气口，用于精确引入反应性气体，并具有可变的非均匀性补偿特性，以提高工艺均匀性。腔室顶部装有3级自动关闭阀，在等离子体暴露时提高安全性。TOKYO ELECTRON INDY PLUS-B-M还附带了广泛的高级工艺选项，包括晶圆批处理加载、冷却、脱气、层转移和端点控制（EPC）。EPC功能支持对过程端点的精确控制,并允许设备工程师优化设备性能。晶片批次加载资产最多支持四个晶片,从而实现高吞吐量过程。TEL/TOKYO ELECTRON INDY PLUS B-M 蚀刻器/asher是先进半导体器件生产的绝佳工具。它提供可靠、精确的蚀刻性能以及先进的工艺特性,以优化设备制造。
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