二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3 #293603576 待售

ID: 293603576
晶圆大小: 12"
优质的: 2018
Polysilicon etcher, 12" (2) AC Distribution boxes Main frame: Loader module (3) Load ports Vaccum transfer module: Transfer module (2) Loadlock modules Process module​: PM1: Vesta NV3 PM2: Vesta NV3 PM5: RF-3 PM6: Vesta NV3 (3) HF RF Power supplies (4) Gas boxes (3) RF Generators (3) TMP Controllers 2018 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3是一种可靠、高效、精确的等离子体蚀刻器/asher,用于广泛的应用。TEL Tactras Vesta NV3采用"等离子体增强蚀刻"技术运作,该技术使用高温、高电场和高能离子。这种蚀刻方法可以在精确的图样上进行精确蚀刻,以及广泛的深度蚀刻/灰化。TOKYO ELECTRON Tactras Vesta NV3的界面是人性化的,允许精确和容易控制蚀刻参数。它还包括一个直观的图形用户界面,它减少了生产周期时间并提高了生产率。蚀刻器/asher支持多种基材尺寸,从200 mm到300 mm不等,使其用途广泛,非常适合各种半导体生产工艺。该NV3还设有一个先进的熔炉模块,有助于减少不均匀的加热和帮助均匀蚀刻。此外,它还具有一个泵系统,该系统减少了气体消耗,降低了与蚀刻工艺相关的成本。该NV3配备了SEGARD(超级蚀刻气体分析数据记录),可以准确记录蚀刻表面上的气体分布。这有助于提高蚀刻图样的准确性,并确保蚀刻过程的均匀性。NV3提供的一些功能包括自动基板温度控制、自动出口温度控制和自动沟槽形成。这些特性很重要,因为它们有助于保持基板温度恒定,并有助于提高工艺的均匀性。该NV3还能够同时蚀刻多达10个晶圆,大大提高生产率和吞吐量。总之,TactrasVesta NV3等离子体蚀刻器/asher是一种高精度、可靠的蚀刻器/asher,用于各种生产工艺。这样的特性可以在各种基材尺寸上实现均匀的蚀刻、更快的吞吐量和出色的均匀性。
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