二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3 #9312750 待售

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ID: 9312750
晶圆大小: 12"
优质的: 2017
Oxide etcher, 12" Loader module 2.0 (3) Nitrogen purged load ports (2) Chambers (2) ATCC MP,120° (16) Gas lines (4) ATS 60 SE Chillers (2) TEL / TOKYO ELECTRON Power racks (2) EBARA ESV 300 Pumps Advanced purge station VTM / LLM Pump Carrier ID reader for load ports S-RDC Syncronized pulse FC2 Chamber Large turbo pump (Non-heated) C5K Endpoint detection system Fast Flow Measurement System (FFMS) SMIF Handler Gas: Line / Gas 1 / H2 2, 13 / C4F8 3 / NF3 4 / CH4 5 / CH2F2 6 / CHF3 7, 16 / CF4 8, 14 / N2 9, 15 / O2 10 / CO 11 / CO2 12 / Ar CE Marked Does not include chillers 2017 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3是一种用于半导体制造工艺的蚀刻器/asher。它是一种单室设备,设计用于晶圆制造中的批处理应用。TEL Tactras Vigus LK3是一种全自动蚀刻器,一次运行最多可处理150个晶圆。它配有两个独立的稀氢氟酸源(DHF),以提供对所需晶片表面蚀刻深度的精确控制。TOKYO ELECTRON TACTRAS Vigus LK3在其蚀刻室中采用了独特的晶片支架设计,以在所有晶片上提供最大的晶片负载稳定性和均匀的加工时间。利用专用输送机系统和加工室提高蚀刻精度和可靠性。该设备能够使用高级工艺控制器和高度复杂的软件进行高精度控制。该LK3与硅、铝、铜等各类晶片兼容。此外,该机器能够支持多种蚀刻配方,从而允许快速转换和工艺优化。Tactras Vigus LK3的设计采用了坚固的机械结构,通过多年的使用确保其寿命和可靠性。耐用外壳具有耐腐蚀性,可承受溶剂和化学清洁剂的暴露。该工具还配备了直观、用户友好的触摸屏界面,使操作员能够快速轻松地查看和调整蚀刻参数。此外,高级用户界面还提供强大的服务和维护功能以及远程诊断和实时数据记录功能。此资产的设计考虑了安全性,并为操作员的安全提供了多种级别的保护。TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus LK3蚀刻器的设计符合所有国际安全标准,包括NFPA 79和CENELEC EN 60079-11。它还提供了一系列安全功能,例如单独的互锁模型、紧急停止按钮和噪音限制器。TEL Tactras Vigus LK3可以被技术人员用来精确地蚀刻各种类型的晶圆。它非常适合在许多半导体相关的应用中使用。
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