二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras Vigus #293818565 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Tactras Vigus是一种蚀刻器或"灰烬"，用于一系列过程，包括沉积、溅射涂层、CVD、升空、平面化和通过图样化。该工具采用离子植入技术，以高精度沉积高达55 nm厚的材料层。它提供了基板上蚀刻地形的均匀性，也可用于进行化学气相沉积（CVD）。蚀刻过程由离子植入和溅射涂层进行，而CVD过程则是通过在基材上引入气相成分来完成。TEL Tactras Vigus蚀刻器配备了一系列先进组件，包括阴极、基板支架、RF微波、基板冷却系统和气体注入机构。阴极产生一个用来蚀刻硅的放电，而基板支架可以容纳直径达8英寸的基板。频率范围为1.8至38.5 GHz的大功率射频微波，用于为蚀刻过程创造高温、强压电等离子体。基板冷却系统将基板的温度保持在5-40摄氏度的范围内，从而确保沉积和蚀刻过程安全进行。最后，采用气体喷射机理控制气液的蚀刻速度、压力、化学成分以及气体流速。TOKYO ELECTRON Tactras Vigus蚀刻器的主要优点之一是能够精确蚀刻到55nm，即使在石墨、旋齿合金等多孔表面也是如此。此外，该工具可以很容易地集成到现有设备中，并且可以在洁净室或露天条件下操作。再者，凭借其高速旋转和高速、低压蚀刻设备，可以快速准确地完成蚀刻过程。因此，Tactras Vigus蚀刻机适合广泛的应用，包括生产、研究和开发。