二手 TEL / TOKYO ELECTRON Tactras #9395908 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON Tactras，一种高解析度的蚀刻/asher设备，设计用于各个行业，包括半导体、航空航天、汽车、消费电子和医疗领域的行业。TEL Tactras拥有从4nm到5µm的各种材料的各种薄膜厚度的高度通用能力。这套精密蚀刻系统配备了超高分辨率、可调蚀刻速率控制、可重复的深度蚀刻能力。TOKYO ELECTRON Tactras单元由几个组件组成，包括主单元、蚀刻盘和电源。主机采用开放式腔室设计，方便出入，配有六轴机械臂和用于精确导航和控制的电动夹具升降机。蚀刻托盘在高速蚀刻时使用寿命长,可靠性坚固。机动化夹具升降机在蚀刻过程中便于调整和不断监测侧壁蚀刻。Tactras设计了一个高度先进的实时，预测蚀刻速率控制机器。此工具使用高级可控参数在处理过程中准确保持一致的蚀刻速率。TEL/TOKYO ELECTRON Tactras的实时控制功能使用户能够优化蚀刻条件,同时降低不均匀和蚀刻损坏的风险。TEL Tactras强大的低温等离子体源能够产生10至20 eV的离子能量,并且可调至30至40 eV。这种低温等离子体源能够提供高沉积速率和减少工艺时间，从而增加样品吞吐量。TOKYO ELECTRON Tactras还利用先进的气体输送和控制资产进行精确和成功的蚀刻结果。Tactras为用户提供了几种可选功能,例如气体回收模型和温度/压力区域监视器。压力/温度区监视器允许用户检查蚀刻室内多个点的温度和压力读数。气体回收设备有助于减少气体浪费，从而提高工艺效率。此外，TEL/TOKYO ELECTRON Tactras系统提供了广泛的诊断工具，使用户能够在处理周期之前预先设定蚀刻参数，以进行工艺优化。配备了这些先进的功能，TEL Tactras是一个用途广泛、功能强大、可靠的针对研发和工业环境的蚀刻单元。其先进的控制机器、低温等离子体源和可选功能使TOKYO ELECTRON Tactras成为薄膜蚀刻和深度蚀刻应用的理想解决方桉。这种高度精确的蚀刻工具能够为任何蚀刻需求提供可靠的结果。
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