二手 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC #9236838 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000 ATC是一款用于半导体工业的先进蚀刻/asher设备。它旨在从半导体表面沉积和去除材料，并具有精确和可重复的结果。该系统由一个中央处理室组成，称为原子转移化学气相沉积（ATCVD）室，以及另外两个蚀刻室（反应性离子蚀刻（RIE）和干金属蚀刻（DME））。ATCVD腔室用于将硅、氮化钛、氧化铝等材料的薄膜沉积到半导体晶片上，形成特定的电触点等结构。在ATCVD室内，含有所需材料的气体溷合物从高压气瓶中流动。气流由ATCVD室的光束监测装置（BMS）精细控制，自动调整成紧光束。这BMS有助于确保非常薄的薄膜沉积具有高精度和可重复性。用于从半导体晶圆表面蚀刻出结构的RIE腔室,如连接器、触点和接线。在这个室内，将含有反应性化学物质的气体溷合物引入受控真空环境，形成一个商业上可选择的等离子体场。然后这个等离子体场有选择地将不想要的材料蚀除，同时保持所需的材料完整。DME腔室用于干金属蚀刻，意思是在不使用化学工艺的情况下去除金属层。这个腔室使用感应耦合等离子体，这样就可以在不需要气相蚀刻剂的情况下对材料进行反应性去除。这三个会议厅一起为用户提供了广泛的高级处理能力。此外,TEL TE 5000 ATC还配备了高级安全机器,以及带有触摸屏的图形用户界面。这样可以方便地输入命令,并且工具的网络兼容体系结构可以轻松集成到其他系统中。它还支持用于不同自定义蚀刻任务的各种配方模板,以进一步提高其灵活性和效用。总而言之，TOKYO ELECTRON TE 5000ATC是设计用于半导体行业的高度先进的蚀刻/aschring资产。它为用户提供了一致的结果、精确的控制、安全和方便的用户控制，使其成为处理各种半导体表面的理想选择。