二手 TEL / TOKYO ELECTRON TE 5000 #9192931 待售
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ID: 9192931
晶圆大小: 6"
优质的: 1991
Plasma etcher, 6"
Process: Oxide
Vacuum type
Gauge:
MKS 622A02RAE Pressure gauge
VACUUM GEMERAI CMLA-21 Pressure gauge
(2) GRANVILLE PHILLIPS 275071 Convection gauges
Sub module:
EDWARDS CDP80 Dry pump
EDWARDS DP80 Dry pump
SEIKO SEIKI MG-STPH600C-T21/60 TMP
SMC INR-341-60A-X15 Chiller
TEL / TOKYO ELECTRON Chiller Trans OEM
Valve:
VEXTA PH265-02 APC
(3) KURODA C-2-50-60-R3 Gates
Gas flow control:
STEC SEC-4400RC 100 SCCM MFC (CHF4)
STEC SEC-4400MC-302 100 SCCM MFC (CF4)
STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (Ar)
STEC SEC-4400MC-302 1 SLM MFC (He)
STEC SEC-4400M 50 SCCM MFC (N2)
RF Unit:
DAIHEN MFG-20SA3A Generator
DAIHEN MFG-20SA3 RF Controller
ASTECH ATL-100 Matcher
JOBIN YVON H-10 VIS EPD
TEL GAP
Power supply: 208-230 VAC, 50/60 Hz, 40 A, 3 Phase
1991 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON TE 5000是一种蚀刻器，或称为asher，用于半导体制造工艺。它是一种自动化机器，旨在减轻生产时间和组织在硅基板上的蚀刻过程。该设备具有精确的工艺精度、光纤通信和快速数据传输等特点。TEL TE5000的设计具有灵活性。它配备了高度刚性的框架，可以方便、安全和精确地装载和卸载基板。它有一个耐腐蚀和不透气的操作室，除了内置的真空系统，以确保加工室的紧密性。TOKYO ELECTRON TE-5000装有一个自动晶片/基板支架，可以编程，使基板精确转移到适当的加工位置。这样可以确保在整个过程运行期间进行准确的蚀刻。此外，TEL/TOKYO ELECTRON TE5000还配备了一个全自动的配对站，可以在室内自动设置基板和环境。该机器由一台能够驱动整个蚀刻单元的高性能电动机提供动力。电机配有先进的控制系统，如三级电源单元，可根据要求的过程自动监控和调整功率水平，确保精确蚀刻结果。此外，高精度的运动控制系统可以调节过程的速度和加速度，从而获得非常精确的结果。该计算机还通过显示计算机提供故障检查功能,使操作员能够在进程启动前验证蚀刻条件。这对于确保机器正常运行而不出现差异至关重要。为了确保高效可靠的流程,TEL TE 5000配备了多种功能。例如,使用高精度的翻转堆迭器可以在不变形的情况下提高和降低400 mm的基板。此外，机器还配备了中央转移，模拟加工过程中基板和真空系统的运动。总之，TEL TE-5000为用户提供了一个功能强大且可靠的针对各种半导体应用的蚀刻解决方桉。内置的自动化和监视功能可提高流程的准确性,从而每次都能获得一致的结果。
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