二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9154830 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一种为了先进的光刻和微加工而设计的蚀刻器/asher。该蚀刻器/灰化器配备了高性能、精确控制的大气反应性沉积工具，能够在真空环境中进行精确的蚀刻。TEL TELFORFORMULA ALD High-K能够同时处理低压和高压环境。这允许对物理和化学系统进行蚀刻。用反应性气体进行蚀刻，以确保一致的反应速率和均匀的蚀刻。ALD High-K还包括一个专利的"动态控制系统"，该系统自动调节气体流动、温度和压力，以及沉积时间，以产生具有广泛蚀刻参数的精细控制蚀刻工艺。这种先进的蚀刻器/asher是完全封闭的，并提供了一个非常高的精确度的蚀刻速率。环境的温度和成分也可以精确配置，使各种材料可以用相同的工艺蚀刻。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K能够蚀刻标准和薄膜材料。蚀刻工艺效率极高,耗材成本低,功耗低。该蚀刻可以配置为蚀刻范围广泛的宽高比与最小的底切和无氧化。TELFORMULA ALD High-K已被用于制造半导体、IC、PCB和MEMS。这种用途广泛的蚀刻器/asher也被用于快速原型设计、3D打印、纳米技术和其他先进的制造应用。ALD High-K包含了几项确保安全操作的高级安全功能，包括过温保护、O2级过低时自动关闭以及高温绝缘。蚀刻器/asher包括长过程和短过程的单步和多步蚀刻。总之，TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一种先进的蚀刻器/asher，设计用于先进的光刻和微加工。这种先进的蚀刻器/灰化器能够通过调整真空环境中的气流、温度和压力来产生高度精确的蚀刻结果。这种蚀刻器/asher也被用于多种应用，包括半导体、IC、PCB和MEMS。