二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9193848 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一款先进的蚀刻器/asher，设计用于要求很高的半导体工业。该机器能够以高精度和可重复性将极薄的材料层（如氧化物）应用于表面,因此非常适合数据存储或DRAM内存等应用。ALD High-K使用一种化学过程，将干燥的化学前体汽化并注入反应性腔室。然后将腔室加热，在真空下前体和底物表面之间发生化学反应。反应导致材料的薄膜沉积在基板上，然后多余的材料用清除气流从腔室中清除。ALD High-K具有16位主处理器和10位数模转换器，使其能够精确控制沉积过程的参数，如温度、压力和流量。该机器还具有内置的自动调谐功能,可以检测特定流程的最佳设置,从而无需复杂地调谐流程,从而节省了时间和精力。让TEL TELFORFORLA ALD High-K真正脱颖而出的是其不可思议的速度；它可以达到高达80nm/min的沉积速率，使其成为最快的蚀刻器/ashers之一。该装置也是为了长期的可靠性而设计；其全金属腔室的设计是为了延长寿命，并且具有很高的耐腐蚀能力。ALD High-K还具有直观和极其用户友好的控制系统。机器可以使用板载软件以独立模式操作，也可以使用集成的串行/USB端口连接到计算机。数字显示显示所需的所有基本信息，如沉积时间和前体浓度。综上所述，TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一种先进的蚀刻器/灰化器，能够提供快速准确的薄膜沉积。该机具有数字显示屏、16位主处理器、10位模数转换器以及直观且用户友好的控制系统，使其非常适合用于需要对表面进行精密蚀刻的各种行业。