二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9253032 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一款用途广泛且先进的蚀刻器/asher，专门为满足从事材料化学的研究人员的需求而设计。本机利用原子层沉积技术沉积厚度均匀、化学计量精度高的薄膜涂层。这种先进的蚀刻器/asher具有10微米分辨率的最小特征大小，允许严格的过程控制和精确的结果。TEL TELFORMULA ALD High-K专为研发和工业应用而设计，提供半导体、金属、光刻胶等基材的快速高效蚀刻。灰化器/蚀刻器具有很高的选择性和均匀性。该系统采用专有的TAFHigh-K工艺,能够沉积薄膜涂层,对薄膜厚度和薄膜内元素的比例进行非常精确的控制。然后为薄膜层提供超高纯度、低表面能、高介电常数和其他所需的性能。High-K TELFORMULA ALD系统以类似声化学的方式工作，利用热能快速为分子通电，达到所需的化学计量。TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K设计为在真空环境中连续运行，最大绝对压力为10 mTorr。该系统配有内置的高分辨率光发射光谱仪，用于分析沉积物制备过程中的性质。OES利用能量分散技术来识别沉积膜中存在的元素，以及膜化学计量和厚度。这一过程还使蚀刻器/asher能够测量薄膜层在基板表面的均匀性。TELFORMULA ALD High-K还具有集成诊断功能,可对处理条件进行监控,以获得最佳效果。这种先进的蚀刻器/asher针对各种各样的基板进行了优化,从硅片到蓝宝石层,它提供了交钥匙自动化,便于操作和最小的停机时间。此外，该机器可以被修改，以适应定制的灰度序列，使其适用于即使是最苛刻的研究应用。