二手 TEL / TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K #9313281 待售

TEL/TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K是一种先进的半导体器件制造蚀刻和灰化设备。该系统具有高K、多室蚀刻和灰化器，具有多种性能，如化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）和电化学沉积（ECD）。该单元为高水平的应用提供了无与伦比的精度和控制，例如生产高K型介电材料的超薄层。TEL TELFORFORMULA ALD High-K提供具有多种功能和控制选项的高K多室蚀刻和asher机。蚀刻器/asher设计用于一次处理多个薄膜层,并精确控制每个层的厚度和粗糙度。该工具还能够通过使用光刻面罩将图层精确阵列化为所需的形状。此外，资产还配备了多向等离子体源，可以更好地控制蚀刻/灰分过程。高K多室蚀刻和灰化器提供稳定均匀的沉积，同时提供高质量的选择性蚀刻和灰分工艺。它还具有卓越的过程重复性，为用户提供了多层次的蚀刻和灰循环。此外，TOKYO ELECTRON TELFORMULA ALD High-K的蚀刻/灰烬工艺可以适应客户的特定需求。该模型还配备了多种工艺工具，包括原位离子监测器、原位光谱化学分析仪、蚀刻抗蚀剂应用、原子粒子检测等。原位离子监测仪是一种先进的分析工具，可以用来精确测量腔室系统中离子的浓度，让用户获得对过程更精确的控制。而原位光谱化学分析仪则可用于监测薄膜层的性能。蚀刻抗蚀剂的应用可用于在蚀刻或灰烬过程前精确掩蔽特定区域，而原子粒子检查工具则用于测量过程后可能残留在室内的小粒子。TELFORMULA ALD High-K是一款先进的蚀刻/asher设备，为用户提供无与伦比的精确度、控制和能力。它提供多种能力，如化学气相沉积、原子层沉积和电化学沉积，并配有多向等离子体源，以便对蚀刻/灰烬过程进行更大的控制。该系统还提供多种级别的蚀刻/灰分循环以及各种工艺工具。该单元的高K多室蚀刻和灰烬为用户提供了至高无上的精确度和控制力，使其成为像生产高K介电材料的超薄层这样要求苛刻的应用的完美选择。